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揭秘泛林干式光刻胶在半导体领域的创新应用
泛林集团新型干式光刻胶技术成功通过认证，突破先进制程壁垒IT之家报道，泛林集团，LamResearch，在最近宣布其最新研发的干式光刻胶技术成功通过了imec认证，这一突破性的技术成就预示着它将极大影响逻辑半导体制造领域的发展，特别是能在当前领先的制程领域如BEOL，互连层制作，中实现更精细的图案化工艺，这一技术的成功研发，不仅意味着...。
2025-01-27 23:36:21